UK / RESEARCH EQUIPMENT
Oxford Applied Research Ltd.は、 英国を拠点とするUHV・HV機器メーカーです。 薄膜成膜や表面科学を中心とした 研究開発向け機器を展開しています。
三和真空では代理店業務として、 Mini e-Beam Evaporator、 サドルフィールド型アトムソース、 PLV1000ピエゾエレクトリックガスドーザーなどを 取り扱っています。
製品単体の選定だけでなく、 既存の真空チャンバーへの組み込みや 研究条件に合わせた構成についてもご相談ください。
Mini e-Beam Evaporatorによる 高純度材料の精密な蒸着・薄膜形成。
Fast Atom Sourceによる 基板クリーニングや表面活性化。
PLV1000による UHV環境での極微量ガス制御。
薄膜成膜・表面処理・精密ガス導入など、 表面科学・材料研究に使用する真空機器を取り扱っています。
電子ビームによって蒸着材料を加熱し、 UHV環境で高純度薄膜を形成する コンパクトな蒸着源です。
微小な成膜速度の制御や、 表面科学・薄膜研究、 半導体材料のドーピングなどに使用されます。
無電荷の原子ビームを利用する 表面処理用アトムソースです。
成膜前の基板クリーニング、 表面活性化、スパッタエッチング、 微細加工などの研究用途に使用できます。
圧電素子を利用してガス流量を制御する オールメタル構造のガスドーザーです。
UHV環境での極微量ガス導入、 MBEガス導入、ガスパルシング、 システム圧力制御などに使用できます。
必要なプロセスに応じて、 成膜源・表面処理源・ガス導入機器をご選定いただけます。
高純度材料の蒸着や、 微小な成膜速度の制御が必要な研究用途。
MINI E-BEAM EVAPORATOR成膜・接合前のクリーニングや、 表面活性化・エッチングを行う研究用途。
FAB110 / FAB104UHV環境での極微量ガス導入や、 圧力・ガス供給の精密制御。
PLV1000表面科学・薄膜・材料研究を中心に、 各種プロセス開発へ使用できます。
金属・半導体材料などを真空中で蒸発させ、 研究用試料や機能性薄膜を形成します。
成膜や接合の前処理として、 基板表面の汚染物や不要な表面層を除去します。
原子ビームを利用して、 表面除去・微細加工・表面改質などを行います。
UHV環境へ極微量のガスを導入し、 表面反応や吸着などの実験条件を制御します。
研究用真空機器では、 使用圧力、チャンバー構成、取付フランジ、 プロセスガス、試料位置などによって 必要な仕様が変わります。
ご使用中の装置や計画中の真空システムについて、 装置構成や使用条件を確認しながら Oxford Applied Research社製品の選定をご相談いただけます。
Mini e-Beam Evaporator、 FAB110 / FAB104、PLV1000をはじめ、 製品選定や真空装置への組み込みについて ご相談を承ります。